大阪市立大学 機器一覧
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微量XRF分析
<装置名>
全反射蛍光X線分析装置
<機器名>
株式会社リガク：ナノハンターⅡ
<仕様・特徴>
マルチビームシステムによりAｌ～Uを高感度に検出します。試料を置くだけで簡単に非破壊分析が可能です。
また、測定の準備も容易で、液体試料の場合、きわめて少ない液量でppbレベルの測定が可能です。
【測定例1：蒸着膜中不純物の検出】
全反射蛍光X線分析法では、照射X線は試料表面から数nm程度の深さまでしか侵入しません。この現象を利用して、極表面のみの高感度分析を行うことが可能です。
【測定例2：固体表面上の付着形態分析】
蛍光X線強度の照射角度依存性を測定することで、試料表面上の元素付着形態を判別することができます。
【測定例3：膜状試料の深さ方向分析】
照射X線の角度を変えることにより、構成元素の深さの濃度変化をみることができます。
<利用料金設定（学外）>
依頼分析
12,700円／利用時間
学術指導
共同・受託研究
※費用は双方で協議の上、決定。
<管理部局>
工学研究科
<設置場所>
杉本キャンパス（工学部棟）